背景介紹

　　隨著科技不斷進(jìn)步，人們對(duì)材料性能的要求也越來(lái)越高。然而，在極端溫度條件下，很多材料的性能會(huì)發(fā)生變化。因此，研究材料在高溫下的行為變得尤為重要。近年來(lái)，超高溫原位XRD裝置在材料科學(xué)研究中的應(yīng)用越來(lái)越廣泛，為揭示材料變化的秘密提供了重要的工具。

　　技術(shù)原理

　　超高溫原位XRD裝置利用X射線衍射技術(shù)，通過(guò)測(cè)量材料中X射線的散射模式來(lái)確定材料的結(jié)構(gòu)和相變行為。超高溫原位XRD裝置具有高溫穩(wěn)定性，能夠在極端溫度下進(jìn)行測(cè)量，確保材料在高溫下的變化過(guò)程真實(shí)可靠。

　　實(shí)驗(yàn)應(yīng)用

　　超高溫原位XRD裝置目前在物理、化學(xué)、材料科學(xué)以及各種工程技術(shù)科學(xué)中得到了廣泛的應(yīng)用。

　　1200℃原位XRD高溫池

　　合肥原位科技有限公司多年來(lái)潛心研發(fā)原位XRD技術(shù)，突破各項(xiàng)技術(shù)壁壘，現(xiàn)推出1200℃原位XRD高溫池，應(yīng)用于常壓、高溫氣固相化學(xué)反應(yīng)的原位XRD測(cè)試與表征。

　　基本參數(shù)

　?、?池體材質(zhì)：哈氏合金C276(內(nèi)嵌陶瓷)/SUS316電鍍(內(nèi)嵌陶瓷);

　?、?窗口：進(jìn)口PI膜/鈹窗;

　?、?控溫精度：±0.1℃;

　?、?溫度均勻性：±1℃;

　?、?池體外表面溫度：≤40℃;

　?、?氣氛：可通氣氛;

　?、?水冷配置：1200W循環(huán)水冷機(jī);

　　⑧ 溫控配置：焦耳加熱電源系統(tǒng)，程序控溫，觸摸屏操作(含配套軟件);

　　基本配置

　　加熱系統(tǒng)：產(chǎn)生高溫并與樣品臺(tái)及樣品臺(tái)內(nèi)樣品進(jìn)行有效熱交換;

　　氣管及接頭：用于客戶端氣路連接;

　　溫控系統(tǒng)：便于對(duì)反應(yīng)池 內(nèi)樣品溫度進(jìn)行控制;

　　冷卻循環(huán)系統(tǒng)、1200W循環(huán)水冷機(jī)：通過(guò)低溫循環(huán)冷卻 液對(duì)反應(yīng)池殼進(jìn)行冷卻降溫處理。(高溫 XRD 反應(yīng)池及其附件工作溫度為室溫-1200℃。)